赫爾納-供應(yīng)VEECO設(shè)備

赫爾納-供應(yīng)VEECO設(shè)備赫爾納-供應(yīng)VEECO設(shè)備

德國(guó)總部直接采夠VEECO設(shè)備，原裝產(chǎn)品，貨期好，支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：赫爾納大連公司在中國(guó)設(shè)有10個(gè)辦事處，可為您提供好的維修服務(wù)。

公司簡(jiǎn)介：

VEECO設(shè)備公司設(shè)計(jì)、制造和銷售薄膜加工設(shè)備，使高科技電子設(shè)備的生產(chǎn)和開發(fā)涉及世界各地。

VEECO設(shè)備公司經(jīng)證實(shí)的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)光刻、離子束、單晶圓刻蝕和清潔在生產(chǎn)用于固態(tài)照明和顯示器的發(fā)光二極管以及在制造電力電子、光子學(xué)、光學(xué)和半導(dǎo)體器件方面發(fā)揮著重要的作用。VEECO設(shè)備還為利用專有相干梯度傳感(CGS)科技的半導(dǎo)體晶片檢測(cè)市場(chǎng)提供解決方案，并向領(lǐng)頭的研究機(jī)構(gòu)提供原子層沉積(ALD)工具。

主要產(chǎn)品：

VEECO設(shè)備

VEECO激光發(fā)生器

VEECO AP 200/300光刻系統(tǒng)

VEECO LSA 101激光釘Anneal系統(tǒng)

VEECO LSA 201環(huán)境控制激光脈沖麻醉系統(tǒng)

VEECO 超高速4G晶片檢測(cè)系統(tǒng)

VEECO 氧氣壓力控制系統(tǒng)

VEECO 襯底加熱器

VEECO MBE系統(tǒng)電纜

VEECO Piezocon氣體濃度傳感器

VEECO 精密氣體混合系統(tǒng)

VEECO 離子刻蝕系統(tǒng)

產(chǎn)品特點(diǎn)：

VEECO設(shè)備 AP 200/300

關(guān)鍵特征

2m分辨率寬帶投影透鏡設(shè)計(jì)，用于封裝應(yīng)用曝光波長(zhǎng)為350-450 nm，用于處理眾多的包裝光敏材料。

可編程波長(zhǎng)選擇(GHI，GH，I)用于工藝優(yōu)化和工藝緯度

用于厚膠工藝和大晶圓形貌的大聚焦深度

高系統(tǒng)吞吐量有利于系統(tǒng)擁有成本

可縮短曝光時(shí)間。

場(chǎng)尺寸為68乘26 mm，曝光兩個(gè)掃描器字段，減少了每個(gè)晶片的曝光步驟數(shù)。

扭曲晶片處理達(dá)±4mm的風(fēng)扇應(yīng)用

無(wú)硬件轉(zhuǎn)換的通用晶片處理(8和12英寸；或6和8英寸)

制作大面積插補(bǔ)器的現(xiàn)場(chǎng)拼接軟件

完整的Secs/GEM軟件包支持生產(chǎn)自動(dòng)化和設(shè)備/過(guò)程跟蹤

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